美國工業(yè)設(shè)計(jì)專業(yè)出國留學(xué)條件 美國工業(yè)設(shè)計(jì)留學(xué)大學(xué)推薦
2024-02-02 10:18:39 來源：中國教育在線
美國是非常優(yōu)秀的一個(gè)國家，每一年都會(huì)有不少的同學(xué)選擇前往美國去留學(xué)讀書學(xué)習(xí)，那么美國工業(yè)設(shè)計(jì)專業(yè)出國留學(xué)條件是什么呢，來讓我們一起簡單的了解一下吧。
美國工業(yè)設(shè)計(jì)專業(yè)出國留學(xué)條件
1、學(xué)術(shù)成績
在美國留學(xué)工業(yè)設(shè)計(jì)大學(xué)，較好的學(xué)術(shù)成績是一個(gè)重要的申請條件。通常來說，留學(xué)工業(yè)設(shè)計(jì)大學(xué)需要滿足高中畢業(yè)或同等學(xué)歷，且要求最低GPA是3.0以上。學(xué)術(shù)成績的要求較高是因?yàn)楣I(yè)設(shè)計(jì)專業(yè)十分注重理論知識(shí)和專業(yè)技能，強(qiáng)大的基礎(chǔ)能力才是成功的保障。
2、語言水平
在美國留學(xué)工業(yè)設(shè)計(jì)大學(xué)需要提交語言成績，在這方面有三種考試可以選擇，分別是托福、雅思和SAT。常規(guī)情況下，留學(xué)工業(yè)設(shè)計(jì)大學(xué)要求報(bào)考托福考試，通常的要求是托福總分80分左右;而部分申請具有良好口語和寫作水平，且美國大學(xué)會(huì)考慮留學(xué)生的母語情況，可以選擇SAT成績提交。
3、個(gè)人作品
在申請美國工業(yè)設(shè)計(jì)大學(xué)的時(shí)候，個(gè)人作品是極為重要的一部分。包括但不限于建筑方案、平面設(shè)計(jì)、場景設(shè)計(jì)、實(shí)驗(yàn)室制品等一切與工業(yè)設(shè)計(jì)有關(guān)的作品，可以直接表現(xiàn)學(xué)生的創(chuàng)造力和專業(yè)能力。在提交作品時(shí)注意作品的數(shù)量，以及單張作品的大小和格式（通常是PDF、JPEG和MOV格式）。評委會(huì)需要通過您的個(gè)人作品來判斷您是否具備進(jìn)入工業(yè)設(shè)計(jì)領(lǐng)域的基本能力，同時(shí)還需要考慮您的創(chuàng)意和審美能力。
美國工業(yè)設(shè)計(jì)留學(xué)大學(xué)推薦
1、羅德島設(shè)計(jì)學(xué)院（RISD）
羅德島設(shè)計(jì)學(xué)院(RISD)是一家集藝術(shù)和設(shè)計(jì)學(xué)科于一體的全球級設(shè)計(jì)學(xué)校。它成立于1877年，距今近140年的古老歷史。在《商業(yè)內(nèi)幕》雜志評選的全球25所最佳設(shè)計(jì)學(xué)校中，RISD名列榜首，擊敗了耶魯、麻省理工、普拉特、SAIC和其他實(shí)力雄厚的學(xué)校。
2、藝術(shù)中心設(shè)計(jì)學(xué)院
藝術(shù)中心設(shè)計(jì)學(xué)院(通稱ACCD)成立于1930年，是一家以當(dāng)代設(shè)計(jì)為基礎(chǔ)，與藝術(shù)設(shè)計(jì)領(lǐng)域密切相關(guān)的藝術(shù)學(xué)校。藝術(shù)中心重點(diǎn)培訓(xùn)以視覺藝術(shù)為職業(yè)的工人和藝術(shù)家。
3、設(shè)計(jì)創(chuàng)意學(xué)院（CollegeforCreativeStudies）
美國創(chuàng)意設(shè)計(jì)學(xué)院被稱為英語創(chuàng)意研究學(xué)院，通稱CCS。CCS校園由沃爾特和約瑟芬福特校園和阿爾弗雷德陶布曼設(shè)計(jì)教育中心兩部分組成，兩者都位于底特律的中心地帶。
4、辛辛那提大學(xué)（UniversityofCincinnati）
辛辛那提大學(xué)創(chuàng)立于1819年，是美國第二悠久的公辦機(jī)構(gòu)。普林斯頓評價(jià)稱辛辛那提大學(xué)是中西部最棒的公辦高校。
以上就是全部的關(guān)于“美國工業(yè)設(shè)計(jì)專業(yè)出國留學(xué)條件”的相關(guān)內(nèi)容了，各位想要前往美國去留學(xué)讀書學(xué)習(xí)的同學(xué)們一定要適當(dāng)?shù)牧私馇宄?，盡量選擇自己喜歡的大學(xué)進(jìn)行留學(xué)學(xué)習(xí)。
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