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日本攝影留學(xué)院校推薦及入學(xué)要求

2024-05-11 14:56:59 來源:中國教育在線

近年來,越來越多的中國學(xué)子選擇留學(xué),那其中日本攝影留學(xué)院校推薦及入學(xué)要求(日本留學(xué)攝影專業(yè)最好的大學(xué))?本文則針對這個(gè)問題,為大家整理了資料,接下來咱們就一起往下了解吧。

日本攝影留學(xué)院校推薦及入學(xué)要求(日本留學(xué)攝影專業(yè)最好的大學(xué))

日本攝影留學(xué)院校推薦及入學(xué)要求

1.東京藝術(shù)大學(xué)

的先端藝術(shù)表現(xiàn)專攻成立于1999年4月,于是它的修士課程便隨著99屆的一期生的畢業(yè)成立于2003年。先端藝術(shù)表現(xiàn)追求突破‘美術(shù)’領(lǐng)域的教育實(shí)踐。一直以來,藝大的學(xué)科編成都是根據(jù)所涉及的技法和專業(yè)方向來確定的。而先端藝術(shù)表現(xiàn)是,對藝術(shù)本身所抱有的意義本身——“表現(xiàn)的問題”進(jìn)行研究。

入學(xué)要求:

日語要求:沒有硬性要求

作品要求:A4作品集60頁

試驗(yàn)內(nèi)容:作品集+研究計(jì)劃書+小論文+面試

2.武藏野美術(shù)大學(xué)

的映像專業(yè)開設(shè)于1990年,在當(dāng)代影像藝術(shù)領(lǐng)域?qū)儆陧敿壍膶W(xué)科。武藏野美術(shù)大學(xué)映像專業(yè)追求數(shù)字高畫質(zhì),鼓勵(lì)學(xué)生掌握各種不同類型圖像、影像創(chuàng)作方法。該專業(yè)的特點(diǎn)之一,提供影像藝術(shù)相關(guān)專業(yè)領(lǐng)域的全方位教學(xué)。映像專業(yè)的另外一個(gè)特點(diǎn)是,重視數(shù)字高畫質(zhì),之所以這樣做,是因?yàn)閿?shù)字革命仍在不斷繼續(xù)。比如在電影院中,數(shù)字技術(shù)正在成為主流。另外,廣播與通訊的融合,電影與電視的發(fā)展,都在受到高畫質(zhì)革命的促進(jìn)。

入學(xué)要求:

日語要求:日本語能力考JLPT N2 / 留考 EJU 200

作品要求:近作兩部以上+作品集

試驗(yàn)內(nèi)容:作品集+研究計(jì)劃書+小論文+面試

3.多摩美術(shù)大學(xué)

多摩美術(shù)大學(xué)的寫真是歸類在平面設(shè)計(jì)下面的,同樣身處平面設(shè)計(jì)大方向的還有平面設(shè)計(jì)/環(huán)境設(shè)計(jì)/信息設(shè)計(jì)/字體設(shè)計(jì)/插畫/動(dòng)畫。多摩美術(shù)大學(xué)寫真科的研究室目前只有上田義彥教授。并且從歷年考試結(jié)果來看,上田教授一般不會(huì)直接收修士,大家都是從預(yù)科讀起,所以就是一年預(yù)科+兩年修士,在學(xué)時(shí)間三年起步。

入學(xué)要求:

日語要求:日本語能力考JLPT N1 / 留考EJU 260點(diǎn)記述35點(diǎn)以上

作品要求:作品3部以上,形式自由

試驗(yàn)內(nèi)容:作品集+研究計(jì)劃書+小論文+面試(如小論文選擇英語語種,可免除日語要求條件)

4.東京造形大學(xué)

東京造形大學(xué)的寫真專業(yè),主要在于研究當(dāng)今時(shí)代所需要的新寫真攝影的可能性以及社會(huì)性。當(dāng)然,學(xué)校的導(dǎo)師也十分鼓勵(lì)學(xué)生自由地跨越設(shè)計(jì)和美術(shù)各種領(lǐng)域,在社會(huì)中培養(yǎng)適應(yīng)現(xiàn)代課題的尖端綜合能力。所以,對于想跨專業(yè)學(xué)寫真的同學(xué)們來說,可以說是非常的合適。

入學(xué)要求:

日語要求:日本語能力考JLPT N2 / 留考EJU 280點(diǎn)記述35點(diǎn)以上

作品要求:作品3部以上+作品集(審核需要)

試驗(yàn)內(nèi)容:作品集事前審核+研究計(jì)劃+小論文+面試

5.東京工藝大學(xué)

作為東工藝的源點(diǎn)專業(yè),寫真學(xué)科已存在近一個(gè)世紀(jì)。秉承著「學(xué)習(xí)以傳統(tǒng)為后盾的尖端攝影技術(shù)」,寫真學(xué)科也在歲月長河中逐漸成長、發(fā)展為尖端技術(shù)與媒體藝術(shù)并駕齊驅(qū)的專業(yè)學(xué)系。東工藝寫真學(xué)科基于悠久的傳統(tǒng),帶領(lǐng)學(xué)生在寫真表現(xiàn)基礎(chǔ)、數(shù)字?jǐn)z影、模擬攝影、實(shí)技等課程中領(lǐng)悟?qū)懻娴臉?gòu)成與真諦。另外,學(xué)校也將邀請活躍于世界舞臺(tái)的杰出攝影師到校舉辦特別講座,在與專業(yè)人士的切磋機(jī)會(huì)中,相信學(xué)生能夠建立自己的寫真思維和創(chuàng)意視界。

入學(xué)要求:

日語要求:日本語能力考JLPT N2 / 留考EJU 240點(diǎn)以上

作品要求:作品形式自由

試驗(yàn)內(nèi)容:作品集+研究計(jì)劃+筆試(有英文題目)+面試

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